1990–1995
vakuumska komora
unikat
Jugoslavija, Slovenija
Franc Smole
Iskra – Tovarna polprevodnikov, Trbovlje
aluminij, stekleno okno, silikonsko tesnilo
1
19,5 kg
Vakuumska komora je bila glavni del sistema za nanašanje amornosilicijevih plasti. Nanašanje teh plasti na steklene substrate je potekalo pri srednjem vakuumu in temperaturi 200–300 °C v plazmi silana, vzdrževani z visokofrekvenčno močjo. Sistem je omogočal raziskave nedopiranih in dopiranih amorfnosilicijevih plasti in pin-struktur, ki so osnova za tankoplastne amorfnosilicijeve sončne celice. Sistem je bil izdelan po zasnovi Laboratorija za polprevodniške strukture na Fakulteti za elektrotehniko.
Sistem za depozicijo amorfnosilicijevih plasti je bil načrtan v Laboratoriju za polprevodniške strukture na Fakulteti za elektrotehniko v Ljubljani leta 1990. Sestavni deli za komoro so bili izdelani v fakultetni mehanični delavnici, zahtevno varjenje pa je bilo izvedeno v enoti IMP v Vižmarjih v Ljubljani. Visokofrekvenčni 13,7 MHz-ni generator so izdelali na IEVT-ju na Teslovi v Ljubljani. Dozirni sistem za pline (silan, metan, vodik, diboran, fosfin), ki so ga sestavljali regulatorji masnega pretoka in krmilna naprava so nabavili v Iskri – Tovarni polprevodnikov Trbovlje. Pripadajoči vakuumski sistem je bil sestavljen iz dvostopenjske rotacijske predčrpalke in visokovakuumske difuzijske črpalke. Merilni sistem za merjenje tlaka v komori je bil nabavljen na IEVT-ju.